China vs. EUA : Casos relativos a la observancia del Acuerdo sobre los ADPIC

Resumen

Los EUA y China han sido protagonistas en múltiples asuntos ventilados ante el Órgano de Solución de Diferencias de la OMC. Una de las medidas en litigio más impugnadas ha sido la relacionada con la Propiedad Intelectual (PI). Los EUA han alegado en distintos casos la falsificación dolosa de marcas de fábrica o de comercio y de piratería lesiva del derecho de autor (DA) “a escala comercial”. China no establecía procedimientos ni sanciones penales. Las alegaciones se han basado en dos “problemas fundamentales”: 1) El nivel y método de cálculo de los umbrales penales. 2) La limitada serie de pruebas numéricas de los umbrales que obligan a los funcionarios encargados de la observancia de la ley a descartar otros indicios de falsificación y piratería. Se presenta una serie de argumentos e interpretaciones de la legislación china en materia de PI y DA a la luz del art. 61 del Acuerdo sobre los ADPIC y de la Convención de Viena sobre el Derecho de los Tratados como principales instrumentos jurídicos que determinarán la supuesta incompatibilidad normativa entre estos instrumentos jurídicos. La ausencia de procedimientos de observancia de las normas internacionales facilita la realización de conductas lesivas de la PI y de los DA en China. Se analiza la Ley de DA, el Código Penal y los Reglamentos de Aplicación chinos, el Acuerdo sobre los ADPIC, los informes de los Grupos Especiales y del Órgano de Apelación. La investigación es de carácter documental-analítica.

Presentadores

Blanca Yaquelin Zenteno Trejo

Armando Osorno Sánchez
Profesor-invetsigador, Facultad de Derecho y Ciencias Sociales, Benemérita Universidad Autónoma de Puebla

Details

Presentation Type

Ponencia temática de un trabajo

Theme

Estudios globales

KEYWORDS

Propiedad Intelectual, Derecho de Autor, China, EUA

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